供应UHV半导体镀膜材料辅料 无油铝箔 用于洁净真空室屏蔽污染
3000.00
半导体镀膜材料;超高真空铝箔;铝箔;洁净真空室;屏蔽污染
产品摘要
供应UHV半导体镀膜材料辅料 无油铝箔 用于洁净真空室屏蔽污染由天津优埃尺维科技有限公司提供。
产品摘要：半导体镀膜材料;超高真空铝箔;铝箔;洁净真空室;屏蔽污染
参考价格：3000.00。
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产品参数
品牌
ALL-FOIL
厚度
0.015英寸
挺度
100%
重量
10千克/卷
颜色
光亮
宽度
24英寸
耐破度
100%
不透明度
不透明
加工定制
是
适用星级
10
产品特性
洁净无油铝箔
标准规范
ASTM-B479,QQ A-1876
用途
用于洁净真空室屏蔽污染
产品详情
UHV Foil 超 高 真 空 铝 箔
天津优埃尺维科技有限公司是由在真空领域有着多年经验的工程师团队创建，是一家专业从事研发，设计，制造超高真空零部件及超 高真空铝箔的高科技公司。
超高真空铝箔适用于无尘室和真空环境下使用，采用无油，无水汽制造，可用于真空腔体包裹加热烘烤、超高真空零部件包裹烘烤、真空镀膜设备屏蔽腔体和零部件避免污染，以节省真空腔体清洁时间，也可用于半导体洁净零部件等包裹避免零件污染。
产品规格：去油，去脂，去气，适用于超高真空室或洁净零部件包装。卷状（英制尺寸：0.0015"×24"×500 Linear Feet) (公制尺寸：0.0381mm×609.6mm×152.4 Meter)10公斤一卷。
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Ultra High Vacuum foil is suitable for use in clean-rooms and vacuum chambers. Wrapped in plastic and packed in a plastic box, this foil is "A Wettable" per ASTM B-479 Para. 3.1.4 & 10.3.1. It is also meets QQ-A-1876 Type 1 Grade B tested using the Aluminum Standard Association&＃39;s test method certified by our mill.
Coils are tested individually during our production process for compliance to the "A Wettable" condition.
Manganese, Mn
0.05
Magnesium, Mg
0.05
Zinc, Zn
0.05
Titanium, Ti
0.03
Silicon, Si + Iron, Fe
Remainder
Physical Properties
Density
2.6-2.8 g/cm3
0.0939-0.1011 lb/in3
Mechanical Properties
Elastic modulus
70-80 GPa
10152-11603 ksi
Poisson’s ratio
0.33
0.33
Other Designations
AMS 4011
ASTM B373
ASTM B479
QQ A-1876
