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高纯度纳米二氧化铈 超细微米氧化铈粉 4N级品质半导体芯片抛光工艺
高纯度纳米二氧化铈 超细微米氧化铈粉 4N级品质半导体芯片抛光工艺
杭
杭州吉康新材料有限公司
460.00
高纯度纳米二氧化铈;超细微米氧化铈;高纯微米氧化铈;高纯超细二氧化铈;半导体抛光用氧化铈粉
产品摘要
高纯度纳米二氧化铈 超细微米氧化铈粉 4N级品质半导体芯片抛光工艺由杭州吉康新材料有限公司提供。
产品摘要:高纯度纳米二氧化铈;超细微米氧化铈;高纯微米氧化铈;高纯超细二氧化铈;半导体抛光用氧化铈粉
参考价格:460.00。
当前页面提供 15 组参数信息,可用于快速了解规格。
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产品参数
CAS号
1306-38-3
分子式
CeO2
产品名称
二氧化铈
材质
粉末
是否进口
否
颜色
淡黄色至白色粉末
包装规格
25kg
粒度
10-30nm
氧化铈纯度
≥99.95%
等级
分析纯
是否可以定制
可以
样品
1公斤
品牌
吉康
用途范围
半导体抛光 芯片抛光 催化 等
型号
SS-CE420
产品详情
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