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京迈研 高纯 金属钼靶材 Mo target 磁控溅射镀膜材料 科研使用 4N
京迈研 高纯 金属钼靶材 Mo target 磁控溅射镀膜材料 科研使用 4N
北
北京京迈研材料科技有限公司
200.00
钼靶材;磁控溅射材料;Mo;Mo靶材;钼
产品摘要
京迈研 高纯 金属钼靶材 Mo target 磁控溅射镀膜材料 科研使用 4N由北京京迈研材料科技有限公司提供。
产品摘要:钼靶材;磁控溅射材料;Mo;Mo靶材;钼
参考价格:200.00。
当前页面提供 15 组参数信息,可用于快速了解规格。
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产品参数
纯度
99.99%
特性
钼熔点很高,热传导率较高,硬度较大
含钼量
99.99
熔点
2617℃
加工定制
是
靶材名称
钼靶材
化学式
Mo
规格
根据客户要求定制
靶材类型
金属靶材
包装方式
真空包装
交货期
7天
发票
可提供正规发票
运输方式
顺丰速运
颜色
银白色
品牌
京迈研
产品详情
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