CVD二氧化硅/硅基底单层二硫化钨
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产品摘要
CVD二氧化硅/硅基底单层二硫化钨由江苏先丰纳米材料科技有限公司提供。
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产品参数
型号
101035
范围
9 mmx9 mm
应用行业
混悬剂，乳剂， CMP 化学抛光液，粉体，墨水，油墨
产品详情
| 货号 | CAS号 | 编号 | 包装 | 参数 |
| 101035 | 7440-33-7 | XF166 | 1 盒 | 基底尺寸: 9 mmx9 mm |
产品名称
中文名称: CVD氧化硅/硅基底单层二硫化钨
英文名称：Single Layer WS2 on SiO2/Si
性质
形态：薄膜
参数
基底：二氧化硅/硅
氧化层：300nm
基底尺寸：9 mmx9 mm
WS2片径大小：20-50 µm
厚度：0.6～0.8 nm
应用
该类材料缺陷少，光学性质优良，层数可控，是研究层数和荧光效应和制备器件的优异材料。
