单层氮化硼薄膜（HBN）SiO2/Si基底
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产品摘要
单层氮化硼薄膜（HBN）SiO2/Si基底由江苏先丰纳米材料科技有限公司提供。
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产品参数
型号
102674
范围
>4 um
产品详情
| 货号 | CAS号 | 编号 | 包装 | 参数 |
| 102674 | 7440-42-8 | XF239 | 1片 | 1英寸x1英寸，SiO2/Si基底 |
| 102675 | 7440-42-8 | XF239 | 1片 | 1英寸x2英寸，SiO2/Si基底 |
| 102676 | 7440-42-8 | XF239 | 1片 | 2英寸x2英寸，SiO2/Si基底 |
产品名称
中文名称：单层氮化硼薄膜（HBN）
英文名称：Monolayer boron nitride film（HBN）
性质
覆盖率：100%
基底：SiO2/Si
晶粒尺寸：>4 um
氧化层：300 nm
硅：500 um
应用
HBN薄膜可被用作金属绝缘金属结构的超薄间隔层，以及电子的隧道阻挡层，使其具有广泛的应用，例如纳米电容器、场效应隧道晶体管。作为单分子膜还可被用作介质或基片。
