PHI 06-C60型离子枪

PHI 06-C60型离子枪

简介

PHI06-C₆₀型离子枪设计独特，适用于多种有机物和聚合物材料表面低损伤的清洁和溅射深度剖析。该离子枪产生C₆₀离子束，经过韦恩过滤器过滤。一旦C₆₀离子束轰击到样品表面，其初始动能就会分配到60个碳原子上。导致样品表面能量级联形成高效率溅射过程且对样品化学成分造成的破坏*小。而Ar离子束溅射对有机物和聚合物造成化学破坏比较严重，06-C₆₀型离子枪在当前的仪器设计中，包括Quantera SXM和VersaProbe，作为一种配置选项，该离子枪也可经过改装用于多种Ulvac-Phi Quantera和PHI 5000系列的XPS仪器。另外，该离子枪的控制器和扫描控制单元均由计算机控制。

图1 - PHI 06-C₆₀ 10kV - C₆₀型离子枪

应用优势

两片被硅氧烷污染的PET 薄膜，分别用500 V Ar 离子束和10 kV C₆₀离子束溅射。用 Ar 离子束溅射1 nm后，PET的C 1s谱图中看到明显化学破坏；用Ar离子束溅射20 nm后，PET的C 1s谱图中看到剧烈化学破坏。而与之对应C₆₀离子束溅射20 nm后，PET的C 1s谱图中看到化学成分几乎与未溅射表面没有区别。

图2 - PET 表面的C 1s高分辨谱随溅射深度变化的关系 (a) 500 V Ar 离子束 (b) 10 kV C₆₀离子束。C 1s 谱表明经500V Ar 清洁后出现严重的化学成分破坏