碳化硅外延P-Type

面议
产品摘要
碳化硅外延P-Type由江阴晶沐光电新材料有限公司提供。
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产品参数
型号
碳化硅外延P-Type
产品详情

介绍:碳化硅(SiC)外延P型是通过在SiC衬底上生长掺杂受主杂质(如铝或硼)的外延层实现的,具有宽禁带、高导热性和高击穿电场等特性。

应用:应用于功率电子(高效电源转换器、电动汽车和工业电机驱动)、高温器件、IGBT(电动汽车和电力系统)、BJT(高功率放大和开关应用)和射频器件(5G基站和雷达)等领域有广泛应用,特别适合高功率、高频和高温环境。

产品规格书


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碳化硅P型外延衬底(2~8inch)

衬底直径

2英寸-50.8mm

4英寸-100mm

6英寸-150mm

8英寸-200mm

碳化硅衬底厚度

350μm

350μm

350μm

500μm

碳化硅衬底晶向

Off-Axis:4°toward <11-20>±0.5°

碳化硅衬底电阻率

0.014~0.028 Ω•cm


外延导电类型

P-type

掺杂元素

Al-doping

外延层厚度

<5 um

外延层厚度均匀性

≤6%

外延层表面

RMS<1nm

外延结构图