CVD法二硫化钨薄膜

制造方法：
化学气相沉积法， Chemical Vapor Deposition （CVD）
 

产品简介：
1） 单层离散分布的三角状单晶晶粒，三角边长一般是几十至一百微米。
2） 由三角晶粒继续长大连在一起的单层连续薄膜。
3） 多层WS2 连续薄膜。
4） 基底：WS2可选基底较多，其中蓝宝石基底为直接沉积产品。其他基底例如：SiO2/Si,　硅片，PET，PI，ITO，FTO，玻璃，金属基底等是通过在蓝宝石上生长后转移至客户所需基底。
 

应用领域：
光电器件，微电子器件，生物传感，化学传感等领域。
 

包装及规格
10*10mm,15*15mm,20*20mm,
净化抽真空包装， 1片/盒，5片/盒。10片/盒。
单面抛光蓝宝石基底WS2

单层WS2孤立晶粒

单层WS2连续薄膜