HWF-真空气氛罐式炉

HWF-真空气氛罐式炉

典型应用

CIM/MIM脱脂处理、金属热处理行业、金属增材制造领域的退火、淬火、灼烧、除气，热分解、热力排胶、干燥等工艺。

参数及特点:

◆额定温度:1000℃;

◆有效尺寸:400*400*650mm(W*H*D)

◆温度均匀性:+5℃;

600℃的真空热处理工艺;

◆气氛环境下**1100℃热处理工艺◆氢气环境下的反应烧结工艺;

◆内部设有气体对流装置(≤900℃)，提升炉膛内部温度及气氛的均匀性。