产品参数
型号
立式炉
产品详情
该设备是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、 分立器件、电力电子、光电器件等行业的氧化、扩散、退火、合金等工艺。
氧化工艺：主要用于初始氧化层、栅氧化层、场氧化层等多种氧化介质层的制备工艺。
该设备是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、 分立器件、电力电子、光电器件等行业的氧化、扩散、退火、合金等工艺。
氧化工艺：主要用于初始氧化层、栅氧化层、场氧化层等多种氧化介质层的制备工艺。
