氧化亚硅真空升华炉

适用于氧化亚硅等可气相沉积材料大批量生产；温差控制精度高，高温真空炉；具备高真空升华，反应，脱脂，脱水，气相沉积材料自动研磨刮料，炉内收集等特殊工艺能力。

设备特点：

      一次装料量大， 生产效率高。
      全程全封闭全自动化作业，避免粉尘飞扬，生产现场环境整洁干净。
      温度控制1500度以内，升温速率快。

      可以在真空度下保持稳定运行工作。

设备参数：

产品展示：