产品参数
型号
硅靶Si
产品详情
硅旋转靶采用等离子喷涂或者烧结绑定工艺，可生产**长度4000mm，厚度根据客户要求定制。硅平面靶采用拉晶生长工艺，可生产**长度600mm，**宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工
硅旋转靶采用等离子喷涂或者烧结绑定工艺，可生产**长度4000mm，厚度根据客户要求定制。硅平面靶采用拉晶生长工艺，可生产**长度600mm，**宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工
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