高真空磁控溅射系统
面议
产品摘要
高真空磁控溅射系统由厦门韫茂科技有限公司提供。
当前价格信息以面议或企业沟通为准。
当前页面提供 2 组参数信息，可用于快速了解规格。
产品参数
型号
PVD-100
范围
咨询客服
产品详情
高真空磁控溅射系统
技术参数：
1高真空腔体：2个腔体,包括负荷锁及Sputtering,极限真空，极限压力<5e-9 Torr
2排气速率：从ATM到1E-7 Torr<20分钟(负载锁)
3样品台：**4寸Wafer，可加热RT-300ºC
