6英寸半导体级单晶炉

6英寸半导体级单晶炉

拉晶过程全程自动化

在惰性气体环境中，用石墨加热器将硅材料熔化，

用直拉法生长无位错单晶的设备。

性能优势

设备主体结构优化，提高了整机稳定性。

具有拉制12英寸COP FREE半导体单晶硅棒的功能。

采用新型隔离阀。

液面高度监控系统。

高精度传动机构。

双层水冷套、可升降双层水冷屏。