科研炉管设备-BHC200

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产品摘要
科研炉管设备-BHC200由拉普拉斯(广州)半导体科技有限公司提供。
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产品参数
型号
Bhadra™科研炉管设备-BHC200
产品详情

技术参数

衬底材质:铜、镍或其他

工艺类型:石墨烯等

应用领域:科研