FE系列磁控溅射台

4in.三靶聚焦共溅射镀膜系统，可以满足多组份或多层金属和化合物溅射镀膜，样品台同时具备公转和自传功能，可以同时安装多片100mm样品，薄膜厚度均匀性达到5%，靶材利用率达到40%以上。强磁场设计，可以满足铁磁材料溅射。溅射阴极主体采用聚四氟乙烯设计，优化水冷设计，可以满足大功率密度溅射，成膜速率提高30%以上。