ALD原子层沉积设备

公司开发的主要设备有：工模具硬质涂层镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、多弧离子镀膜设备、磁控溅射复合多弧离子镀镀膜设备、连续线式磁控溅射镀膜生产线、光学镀膜设备、CVD和PECVD化学气相沉积设备、ICP刻蚀设备和ALD原子层沉积等系列真空镀膜和表面处理设备。